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沈陽東創貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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| 先生： |
半導電膠輥通常用在復印機、電子傳真裝置等辦公設備中。半導電膠輥屬于半導電元件，且電阻值受環境影響較大，貴金屬靶材廠家，對產品的導電性要求極其嚴格，因為打印的全過程是碳粉通過電場的壓力來實施，所以輕微的電性誤差將導致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現象。因此需精密的量測，故要求有一套高精密的量測系統來支持，方能達到產品的設計要求。
平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態的氧化銦混合后燒結，貴金屬靶材技術，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺金靶材可以采用直流反應濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，貴金屬靶材多少錢，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產ITO靶材，利用L}IRF反應濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強等優點。
任何金屬都不能達到純。“超純”具有相對的含義，是指技術上達到的標準。
由于技術的發展，也常使 “超純”的標準升級。“超純”的相對名詞是指“雜質”，廣義的雜質是指化學雜質（元素）及“物理雜質”（晶體缺陷），后者是指位錯及空位等，而化學雜質是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。
但只當金屬純度達到很高的標準時（如純度9以上的金屬），貴金屬靶材，物理雜質的概念才是有意義的，因此目前工業生產的金屬仍是以化學雜質的含量作為標準，即以金屬中雜質總含量為百萬分之幾表示。
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第9年
