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東莞市大凡光學科技有限公司
主營：標定板,標定塊,光刻高精度靶
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光刻靶標（也稱為標定板、校準板或參考標記）在微納制造、半導體工藝、光學測量以及機器視覺等領(lǐng)域中扮演著關(guān)鍵角色。以下是光刻靶標的定義與功能的詳細闡述：定義光刻靶標是一種具有圖案或結(jié)構(gòu)的平板或標記，通常用于在光刻工藝、測量設(shè)備或機器視覺系統(tǒng)中進行校準、標定或定位。這些圖案或結(jié)構(gòu)可以是幾何形狀（如圓點、線條、網(wǎng)格、棋盤格等）、條形碼、二維碼或其他特定的設(shè)計，崇明光掩膜版，以便機器或軟件能夠準確識別并據(jù)此進行的計算或調(diào)整。功能校準：光刻靶標的主要功能之一是校準測量設(shè)備或機器視覺系統(tǒng)的精度。通過比較靶標上的已知圖案與設(shè)備到的圖像之間的差異，可以調(diào)整設(shè)備的參數(shù)，光掩膜版生產(chǎn)商，如焦距、放大率、鏡頭畸變等，以確保測量或成像的準確性。
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第2年
