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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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現(xiàn)在行業(yè)中通用的測(cè)量方法基本是手動(dòng)進(jìn)行的，其劣勢(shì)在于手動(dòng)測(cè)試受人為因素 (用力的大小，接觸面積等)影響較大，手動(dòng)測(cè)試無法實(shí)現(xiàn)同一被測(cè)物目標(biāo)的多次數(shù)值的重現(xiàn)，1N金靶材價(jià)格，手動(dòng)測(cè)試時(shí)只能達(dá)到每次測(cè)試出來一個(gè)數(shù)值，無法做產(chǎn)品的分析。另外一般的電阻測(cè)量?jī)x器受溫度和濕度的影響較大，無法測(cè)量，導(dǎo)致不能得出的數(shù)值，福建1N金靶材，從而不能保證廣品的品質(zhì)。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，1N金靶材廠，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，1N金靶材哪家好，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式，就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
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第9年
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