PI膜膜厚測試儀主要基于光學干涉原理進行膜厚的測量。這一原理的核心在于利用光波在薄膜上的反射和干涉現象來確定薄膜的厚度。

具體來說，當PI膜膜厚測試儀發出不同波長的光波并穿透樣品膜層時，膜的上下表面會反射光線，這些反射光被儀器接收并測量。由于薄膜的上下表面反射光之間存在相位差，這種相位差的變化與薄膜的厚度和折射率密切相關。當相位差為波長的整數倍時，反射光之間產生建設性疊加，反射率最大；而當相位差為半波長時，反射光之間則出現破壞性疊加，反射率最低。

通過測量這種相位差的變化，并結合已知材料的光學參數（如折射率和消光系數），可以推導出薄膜的反射率曲線。然后，將該反射率曲線與設備實際測得的反射率曲線進行對比，當兩者完美擬合時，即可通過解析干涉圖形來確定薄膜的厚度。

值得注意的是，這種測量方法主要適用于透明或半透明材料制成的薄膜，因為光波需要能夠穿透樣品膜層才能進行反射和干涉的測量。此外，PI膜膜厚測試儀具有高精度、非接觸式測量等優點，廣泛應用于薄膜制備、質量控制和科學研究等領域。

綜上所述，PI膜膜厚測試儀利用光學干涉原理，通過測量光波在薄膜上的反射和干涉現象，從而精確測定薄膜的厚度。