光學干涉測厚儀是一種利用光學干涉原理進行薄膜材料厚度測量的高精度儀器。其測量范圍因具體型號和規格的不同而有所差異。一般來說，光學干涉測厚儀的測量范圍可以從納米級別到微米級別，甚至更大。例如，有些設備能夠測量的厚度范圍可能在1納米到3000微米之間，而有些則可能專注于更小的測量范圍，如0.1微米到100微米。這些設備的測量精度也相當高，可以達到納米級別，如0.01納米或0.01%的理論精度，以及小于0.02納米或0.03%的穩定精度。此外，光學干涉測厚儀的特點是非接觸式、無損、精準且快速，能夠在不破壞樣品的情況下進行厚度測量。它可應用于多種領域，如光學膜涂布、太陽能晶圓、超薄玻璃、膠帶、Mylar膜、OCA光學膠、光阻等的測量，也可用于測量手機觸摸屏ITO等鍍膜厚度、PET柔性涂布的膠厚等厚度、LED鍍膜厚度，建筑玻璃鍍膜厚度等。另外，一些先進的光學干涉測厚儀還具有構建材料結構的拓展功能，可以對單/多層薄膜數據進行擬合分析，對薄膜材料進行預選模擬設計，結果可以以2D或3D的形式顯示。總的來說，光學干涉測厚儀的測量范圍廣泛，精度高，能夠應用于各種薄膜材料的厚度測量。然而，具體能夠測量的厚度范圍還需根據設備的具體型號和規格來確定，因此在實際應用中，需要根據測量需求選擇合適的設備。