ITO膜膜厚測試儀主要采用的是光學干涉的測量原理。這一原理基于光波在薄膜上的反射和干涉現象。當光束照射到ITO膜表面時，由于入射介質、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系數值，使得光束在透明或半透明薄膜的上下表面發生反射。這些反射光波會相互干涉，形成干涉光。具體來說，當膜層上下表面的反射光被儀器接收時，它們之間的相位差會因為薄膜的厚度不同而有所變化。這種相位差的變化會導致反射光的強度發生變化。當相位差為波長的整數倍時，反射光會發生建設性疊加，此時反射率最大；而當相位差為半波長時，反射光則會發生破壞性疊加，反射率最低。ITO膜膜厚測試儀通過測量這種反射光強度的變化，并結合已知的光學參數（如折射率、消光系數等），可以推導出薄膜的厚度。這一過程通常需要使用復雜的算法和光學模型，以確保測量的準確性和精度。總的來說，ITO膜膜厚測試儀的測量原理是基于光學干涉現象，通過測量反射光強度的變化來推算出薄膜的厚度。這種測量方法具有高精度、高可靠性等優點，被廣泛應用于各種薄膜材料的厚度測量中。